В химических и фармацевтических лабораториях процессы сушки материалов традиционно сопровождаются высокими рисками окисления и загрязнения образцов. Настольная вакуумная сушильная печь DZF-6050 обеспечивает оптимальный безкислородный режим, значительно повышая качество и стабильность получаемых результатов.
Вакуумная сушка при близком к абсолютному вакууме уровне примерно 0,098 МПа позволяет эффективно удалить воду и растворители из образцов без воздействия кислорода. Это предотвращает окислительные реакции, которые могут исказить состав и свойства исследуемых химических веществ.
Благодаря точному управлению температурой с помощью системы PID (погрешность не превышает ±1°C) достигается стабильный режим сушки в диапазоне от +10°C до 200°C. Такой температурный контроль минимизирует термическое разрушение и сохраняет целостность материала.
Технический параметр
| Параметр | Значение |
|---|---|
| Диапазон температур | +10°C – 200°C |
| Вакуум | около 0,098 МПа |
| Погрешность температурного контроля | ±1°C |
| Мощность | 1400 Вт |
В химической промышленности и фармацевтике точность сушки влияет на ход синтеза и чистоту продуктов, а в электронике — на стабильность характеристик чувствительных материалов. Применение настольной вакуумной сушильной печи DZF-6050 особенно эффективно при подготовке образцов, требующих деликатного расчистительствования без окисления.
Например, в органическом синтезе удаление остатков растворителя в безкислородной среде предотвращает нежелательное окисление промежуточных продуктов, что повышает выход и воспроизводимость результата.
Встроенный контроллер с возможностью выбора анти-взрывного исполнения гарантирует надежность даже при работе в агрессивных химических средах. Компактный настольный дизайн позволяет рационально использовать лабораторное пространство, что актуально для современных исследовательских центров.
Инвестирование в высокотехнологичное оборудование, как DZF-6050, — стратегический шаг для лабораторий, стремящихся к высокому качеству анализа и результатам без искажения.